— 產品分類(lèi) —
1200℃滑動式單、雙、三溫區CVD係統
產品(pǐn)用途:此款CVD係統適用於CVD工藝,如碳化矽鍍膜、陶瓷基片導(dǎo)電率測試(shì)、ZnO納米結構的(de)可控生長、陶瓷電容(MLCC)氣氛燒結真空淬火退火,快速降溫等(děng)工藝實驗(yàn)。
所屬分類:
關鍵詞:
CVD係統

銷售熱線:
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- 商品名稱(chēng): 1200℃滑動式單、雙、三(sān)溫區CVD係統
- 商品編號: 1034429691655446528
產品(pǐn)用途(tú):此(cǐ)款CVD係統適用於CVD工藝,如碳化矽鍍膜、陶瓷基片導電(diàn)率測試(shì)、ZnO納米結構的(de)可控(kòng)生長、陶瓷電容(MLCC)氣氛燒結真空淬(cuì)火退火,快速降溫等工藝實驗。
銷售熱線:15122725930
產品用途:
此款CVD係統適用於CVD工藝,如碳化矽鍍膜、陶瓷基片導電率測(cè)試、ZnO納米結構的可控
生長、陶(táo)瓷電容(MLCC)氣氛燒結真空淬火退火,快速降(jiàng)溫等工藝實驗。
產品組成:
CVD係統配置:
1.1200度開啟式真(zhēn)空管式爐(可(kě)選配多溫區(qū))。
2.滑動係統分為手動、電動滑動,並配有風冷係(xì)統。
3.多路質量流量控製係統
4.真空係(xì)統(可選(xuǎn)配中真空或高真空)
產品特點:
1 控製電路選用模糊PID程控技術,該技術控溫(wēn)精度高,熱慣性小,溫度不過衝,性能可靠,操作簡單。
2 氣路快速連(lián)接法蘭結構采用本(běn)公司設計,提高操作便捷性。
3 中真(zhēn)空係統(tǒng)具有真空度上下限自動控製功能,高真空係統采用高壓強,耐(nài)衝(chōng)擊分子泵,防止意外漏氣造成分子泵損壞,延(yán)長係(xì)統使用壽命。
4 (電動)滑動係統采用溫度控製器自動控製爐體移動,等程(chéng)序完成,爐體按設定的速度滑動,因(yīn)有滑動限位功能(néng)爐體(tǐ)不會發生碰撞,待(dài)樣品露出爐體後,通過風冷係統快速降溫。
關鍵詞:- CVD係統
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